fit纽约时装学院摄影专业介绍

fit纽约时装学院摄影专业介绍

FiT被评为全世界第一的时装院校。创始人莫蒂默（Mortimer C. Ritter）希望学院成为“一座像麻省理工学院一样的设计学院”。因此经过不懈的努力，FiT已经成为具有丰富的成功的历史，在纽约城市经济的冲击下仍然持久屹立的著名学府。

摄影专业

摄影专业的学生专注于模拟和数字技术相结合的学习，发展批判性思考的能力和视觉表达的能力。学校致力于培养能够以视觉表达的方式解决编辑出版、广告、摄影报道和美术行业里所遇到的问题的摄影师。

本科生申请要求

语言成绩

雅思：6.5分；托福80分

申请材料

申请表、官方英文成绩单、托福或雅思成绩、作品集、短文(750字以内)

申请截止日期

SUNY：春季10月1日 秋季1月1日

FIT：春季11月1日 秋季2月1日

学校只有收到全部需要的申请材料后才会决定申请。

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